重慶真空爐整個爐體被封閉在鋼結構框架中,。重慶真空爐①加熱室②加熱元件③爐④風扇⑤爐門⑥淬火油位于爐子下方,，是一種防水混凝土結構，直徑為4米，深度為20米，或者根據其長度而更深 淬火擠壓產品。重慶真空爐加熱爐的中心相對于淬火池偏心1.2米，因此首先使用電動葫蘆將提升機提升到淬火池中。然后平移到熔爐,，然后使用提升鏈（由提升驅動）到熔爐中的適當高度，直到提升電源自動關閉,。 提升速度為0.4 m / s,。淬火過程中的下降速度為0.4?0.6 m / s。對于大型擠出產品,，可以將其單獨淬火,。爐體框架配備有用于提升和平移爐門的液壓缸。爐門本身裝有石棉密封,。在加熱室和絕緣層之間,，具有寬度為250mm的環(huán)形鳳凰，并且在其中安裝有加熱元件,。爐子的加熱室通過薄板與加熱元件隔開,。風扇安裝在爐子下方的平臺上，電動機功率為70千瓦,。送出的空氣通過加熱室和加熱元件之間的通道進入加熱室,，形成一個強制性熱空氣循環(huán)的封閉系統(tǒng)。 加熱過程完成后,，打開爐門,，將裝料直接放入淬火槽中。重慶真空爐分為五個加熱段,，每個段可以從三角形連接轉換為星形連接,。使用五個電子電位器自動調節(jié)并記錄溫度。

重慶真空爐采用新型熄滅安裝，采用高速調溫燒嘴替代原先的低速燒嘴,。重慶真空爐是燃料與助燃空氣在熄滅室內根本完成完整熄滅,熄滅后的高溫氣體一100-300m/s的速度噴出，從而強化對傳播熱,，促進爐內氣流循環(huán),到達平均爐溫的目的,。另外經過滲入二次空氣使出口熄滅氣體溫度降到與工件加熱溫度想接近?？赏瓿蔁煔鉁囟鹊恼{理,，對進步加熱質量和節(jié)約燃料有顯著作用?？刂茽t內壓力當爐內壓力為負值時,，例如爐內壓力為-10Pa，即可產生2.9m/s的吸入風速,，此時將有爐口及其它不緊密處吸入大量冷空氣,，招致離爐煙氣帶走的熱損失增加，當爐內壓力為正值時,，高溫煙氣將逸出爐外,，同樣招致煙氣帶走的熱損失。

重慶真空爐是用于制造半導體器件的過程,，該過程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能,。 熱處理旨在實現(xiàn)不同的效果。 可以加熱晶圓以激活摻雜劑,，將薄膜轉化為薄膜或將薄膜轉化為晶圓基材界面,，制造致密的沉積薄膜，改變生長薄膜的狀態(tài),，修復注入的損傷,，移動摻雜劑或摻雜劑 該試劑從一個膜轉移到另一膜或從膜轉移到晶片襯底。退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,，例如氧化,，也可以單獨處理。 重慶真空爐由設計用于加熱半導體晶片的設備完成,。 退火爐是一種具有超節(jié)能結構和纖維結構的節(jié)能循環(huán)式操作爐,，可節(jié)電60％。根據熱源的分類,，將退火爐分為電加熱爐,，燃煤退火爐，燃油退火爐,，天然氣退火爐和氣體退火爐,。 其中，由自備的氣體發(fā)生器生產的氣體退火爐被廣泛使用。 氣體退火爐消除了燃燒室,，直接使用氣體燃燒器將燃燒噴入加熱室,。 為了減少能量消耗，氣體退火窯通常配備有熱交換系統(tǒng),，該系統(tǒng)將空氣轉換成支持燃燒的熱空氣用于氣體燃燒,。

（1）重慶真空爐的燃燒器應沿熔池的切線方向安裝。浴鍋每隔一定的時間（例如每周）每30到40轉一次,，以防止浴鍋過熱和燒壞,，以延長浴鍋的壽命。（2）在熔池法蘭和爐盤之間涂上耐火水泥或石棉襯墊密封墊,，以防止熔融鹽流入爐中,。重慶真空爐不宜用燃料加熱硝酸鹽爐，以防止在爐管燒穿后由炭黑和硝酸鹽的作用引起的爆炸,。（3）轉向架爐膛的爐膛底部應設有鹽孔,，以備事故發(fā)生時將熔融鹽排出，并通常用適當?shù)牟牧隙伦?。?）臺車爐使用兩個熱電偶分別測量鹽浴和加熱元件附近的爐溫,。（5）使用氰化物，鉛,，堿等有毒鹽時,，應配備堅固的通風裝置。新購買或翻新的電極鹽浴爐應進行烘烤,。 它可以用電阻絲爐烘烤,，分段加熱并絕緣，以防止混凝土浴中出現(xiàn)裂縫,。爐殼和變壓器接地,。銅條應與電極手柄良好接觸。檢查浴槽,，電極,，電極手柄，變壓器和水冷卻裝置是否短路,。清除爐子所有部位的粘鹽,，水垢和其他污垢。